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研究論文 TSV

2017
  1. Yuka Kobayashi, Jean-Baptiste Vaney, Takao Mori, Yoshitaka Matsushita, Takeshi Terauchi, Yoshihiko Takeda, Shinjiro Yagyu. Transport properties of single-component organic conductors, TED derivatives. Molecular Systems Design & Engineering. 2 [5] (2017) 653-658 10.1039/c7me00029d
2016
  1. 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向. 調査分析室レポート. (2016) 73-89
  2. 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 吉武 道子, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向 物質・材料研究のための先進計測テクノロジー. 調査分析室レポートNIMS-RAO-FY2016-3 [ISBN] 978-4-9900563-7-7. 1 (2016) 42-51
2010
  1. Slavomir Nemsak, Tomas Skala, Michiko Yoshitake, Nataliya Tsud, Taeyoung Kim, Shinjiro Yagyu, Vladimir Matolin. Growth of thin epitaxial alumina films onto Ni(111): an electron spectroscopy and diffraction study. Surface and Interface Analysis. 42 [10-11] (2010) 1581-1584 10.1002/sia.3582
  2. Taeyoung Kim, Michiko Yoshitake, Shinjiro Yagyu, Slavomir Nemsak, Takahiro Nagata, Toyohiro Chikyow. XPS study on band alignment at PtO-terminated ZnO(0001) interface. Surface and Interface Analysis. 42 [10-11] (2010) 1528-1531 10.1002/sia.3601
  3. 柳生 進二郎. 表面処理. 安心・安全・信頼のための抗菌材料. (2010) 99-107
2009
  1. 兼松秀行, 生貝初, 黒田大介, 吉武 道子, 柳生 進二郎, 小川亜希子. 熱処理合金化めっき法によるすず-パラジウム合金皮膜の形成プロセスと皮膜の抗菌性発現. JOURNAL OF THE JAPAN SOCIETY FOR HEAT TREATMENT. 49 [5] (2009) 274-278
  2. YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro. Work function for Applications. 電気学会論文誌 電子・情報・システム部門誌. 129 [6] (2009) 1169-1175

書籍 TSV

会議録 TSV

2015
  1. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. バンドダイアグラム測定装置の開発. JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN(真空) 2015, 144-146
2013
  1. YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, GOTO, Masahiro, CHIKYOW, Toyohiro. Development of Band Diagram Measurement System. 第53回真空に関する連合講演会論文集 2013, 125-9-125-12
2010
  1. 柳生 進二郎, 吉武 道子, キム テヨン, 知京 豊裕. 光電子収量分光における2次電子閾値の検討. JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN(真空) 2010, 187-190

口頭発表 TSV

2016
  1. 吉武 道子, 柳生 進二郎. チャート画像の自動数値化ソフト開発. 第77回応用物理学会秋季学術講演会. 2016
  2. 吉武 道子, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. プローバーコンパチ非破壊電気コンタクトプローブ. 第63回応物春季学術講演会. 2016
  3. 長田 貴弘, 山下 良之, 吉武 道子, 柳生 進二郎, 石橋 啓次, 高橋 健一郎, 李 成奇, 鈴木 摂. マテリアルズインフォマティクスとハイスループット材料合成・計測. 日本セラミックス協会2016年年会. 2016
2013
  1. 吉武 道子, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. グラフェン膜を含むnm厚電極膜への可逆的非破壊電気コンタクトの形成法. 2013年真空・表面学術合同講演会. 2013
  2. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 透明導電性膜のバンドダイアグラム測定. 第54回真空に関する連合講演会. 2013
  3. 吉武 道子, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. グラフェン膜を含むnm厚電極膜への可逆的非破壊電気コンタクト. 第74回応用物理学会秋季学術講演会. 2013
  4. YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, GOTO, Masahiro, CHIKYOW, Toyohiro. Development of Band Diagram Measurement System in Air Condition. NIMS CONEFRENCE 2013. 2013
  5. YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, CHIKYOW, Toyohiro, Matthias Wambach, Alfred Ludwig. Work Function Mapping for Combinatorial Samples using Developed Band Diagram Measurement System under Atmospheric Conditions. INC9. 2013
  6. CHIKYOW, Toyohiro, NABATAME, Toshihide, NAGATA, Takahiro, CHEN, Jun, NGUYEN, Nam, SEKIGUCHI, Takashi, YAMASHITA, Yoshiyuki, YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, NGUYEN Nam. New materials discovery and their application for future nano electronics. INC9. 2013
  7. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 後藤 真宏, 知京 豊裕. 大気中イオン化ポテンシャル・バンドギャップ測定装置の改良. 第60回応用物理学会春季学術講演会. 2013
  8. SOMU, Kumaragurubaran, CHIKYOW, Toyohiro, NAGATA, Takahiro, NABATAME, Toshihide, YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro, CHEN, Jun, SEKIGUCHI, Takashi. COMBINATORIAL MATERIALS EXPLORATION FOR THE GATE STACK IN ADVANCED CMOS DEVICES. Second international workshop on advanced functional nanomateria. 2013
2011
  1. YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro, CHIKYOW, Toyohiro. 酸化物‐金属界面結合へ及ぼす金属合金化の影響. 第31回表面科学学術講演会. 2011
  2. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. Al(110)表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第31回表面科学学術講演会. 2011
  3. YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro, CHIKYOW, Toyohiro. Numerical formula for predicting interface bonding between oxides and metals. ISSS-6. 2011
  4. YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, Nataliya Tsud, CHIKYOW, Toyohiro. Adsorption of Phenylphosphonic Acid on Al (111), and Amorphous and Crystalline Alumina Overgrowth on Al (111) Surfaces . ISSS-6. 2011
  5. 吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. ショットキーバリア高さ制御のための元素添加によるアルミナ−金属界面結合変化の定量的予測式. 第52回真空に関する連合講演会. 2011
  6. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 電極材料におけるチオール・カルボン酸の修飾特性. 第52回真空に関する連合講演会. 2011
  7. 吉武 道子, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. アルミナ−金属界面の結合を介する原子の種類を予測する一般式. 第52回真空に関する連合講演会. 2011
  8. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 様々な電極材料におけるチオール・カルボン酸の修飾特性. 第72回応用物理学会学術講演会. 2011
  9. 吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. アルミナ-アルミ含有合金界面結合の定量的予測式. 2011年秋季 第72回応用物理学会学術講演会. 2011
  10. 吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. アルミナ-金属界面における界面結合の一般的予測. 2011年春季 第58回 応用物理学関係連合講演会. 2011
  11. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. Al(111)及びアモルファスアルミナ表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第58回応用物理学関係連合講演会. 2011
2010
  1. 吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. 金属‐アルミナ界面終端原子種制御の熱力学. 第30回表面科学学術講演会. 2010
  2. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. Al(111)及び酸化したAl表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第30回表面科学学術講演会. 2010
  3. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 有機分子吸着表面における光電子収量測定(PYS)スペクトルの検討. 第51回真空に関する連合講演会. 2010
  4. 吉武 道子, ネムシャク スラボミール, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. 界面終端原子の種類とバンドオフセット. 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010
  5. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. Cu(111)及びAg(111)表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第57回応用物理学会関係連合講演会. 2010
2009
  1. KIM, Taeyoung, YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro, NEMSAK, Slavomir, CHIKYOW, Toyohiro. XPS Study on Band Alignment at Pt-ZnO(0001). international Symposium on Atomic Level Characterizations. 2009
  2. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕, キム テヨン. 光電子収量分光における2次電子閾値の検討. 第50回真空に関する連合講演会. 2009
  3. キム テヨン, 吉武 道子, 柳生 進二郎, ネムシャク スラボミール, 知京 豊裕. マイクロ電子ビーム蒸着法による金属蒸着. 第50回真空に関する連合講演会. 2009
  4. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. 銅及び酸化した銅表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第29回表面科学学術講演会. 2009
  5. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. 銅及び酸化した銅表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009
  6. キム テヨン, 吉武 道子, 柳生 進二郎, ネムシャク スラボミール, 知京 豊裕. マイクロ電子ビーム蒸着法によるプラチナ蒸着の精密制御. 2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009
  7. キム テヨン, 吉武 道子, 森本章治, 川江健, 柳生 進二郎, ネムシャク スラボミール, 知京 豊裕. Al/amorphous SrTiO3薄膜界面における酸化膜形成によるリーク電流抑制効果. 2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009
  8. 柳生 進二郎, 吉武 道子, Nataliya Tsud, 知京 豊裕. アルミナ及び金属表面でのフェニルリン酸の吸着構造. 第56回応用物理学関係連合講演会. 2009
  9. キム テヨン, 吉武 道子, 森本章治, 川崎健太郎, 川江健, 柳生 進二郎, 知京 豊裕. 拡散バリアによるPt 薄膜へのRu 拡散抑制方法. ナノテクジャパン - 第56回応用物理学関係連合講演会. 2009
2007
  1. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 重水素ランプを用いた光電子収量分光装置の製作. 第48回真空に関する連合講演会. 2007
  2. YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, CHIKYOW, Toyohiro. Adsorption structure and work function of dicarboxylic acid . 9th International Conference on Atomically Controlled Surfaces. 2007
  3. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. Cu(110)表面でのトリカルボン酸の吸着状態. 第27回表面科学講演大会. 2007
  4. CHIKYOW, Toyohiro, OHMORI, Kenji, NAGATA, Takahiro, YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, WATANABE, Heiji, YAMADA, Keisaku. Metal glass application as the gate materials for the future ULSI. 第5回NIMS-マックスプランク研究所ワークショップ. 2007
  5. 黒田大介, 兼松秀行, 生貝 初, 吉武 道子, 柳生 進二郎. 熱処理合金化による抗菌性すず-銀合金めっき鋼板の形成プロセス. 日本鉄鋼協会154回秋季講演大会. 2007
  6. 兼松秀行, 仁尾晃規, 黒田大介, 生貝 初, 吉武 道子, 柳生 進二郎. 熱処理合金化によるすず-パラジウム合金めっき鋼板形成の試みとその表面特性. 日本鉄鋼協会154回秋季講演大会. 2007
  7. CHIKYOW, Toyohiro, Jyunpei Sakurai, Seiichi Hata, MATSUMOTO, YUJI, OHMORI, Kenji, YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, WATANABE, Heiji, YAMADA, Keisaku, Akira Shimokoube. Metal glass application as the gate materials for the future <i>hp</i> 32-22nm node MOSFET. STAC-JTMC. 2007
  8. CHIKYOW, Toyohiro, NAGATA, Takahiro, UMEZAWA, Naoto, KUKURUZNYAK, Dmitry, HAEMORI, Masamitsu, YOSHITAKE, Michiko, YAGYU, Shinjiro, NIIKURA, Chisato, KOMATSU, Shojiro, OHMORI, Kenji, YAMADA, Keisaku, YAMABE, Kikuo. Strategy of Materials Science for future Nano Electrnonics. INC3. 2007
  9. 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. Cu(110)表面でのグルタル酸の吸着構造と仕事関数. 第54回応用物理学関係連合講演会. 2007
  10. 吉武 道子, 柳生 進二郎. デバイス電極材料と仕事関数. 第4回真空ナノエレクトロニクスシンポジウム. 2007

特許 TSV

登録特許
  1. 特許第6408257号 コンタクトプローブ及びその製造方法、非破壊的なコンタクト形成方法、多層膜の製造過程における測定方法並びにプローバー (2018)
  2. 特許第6245609号 無欠陥領域を有するエピタキシャル膜を基板上に形成する方法及び無欠陥領域を有するエピタキシャル膜付き基板 (2017)
  3. 特許第6095043号 バンドラインナップ装置及びその測定方法 (2017)
  4. 特許第6040470号 最適イオン化ポテンシャル成膜装置 (2016)
  5. 特許第5979666号 有機EL素子の製造装置及び方法、CVD薄膜の製造装置及び方法 (2016)
  6. 特許第5114774号 金属層―トンネルバリア層―センサー構造及びこの構造を有するセンサー (2012)
  7. 特許第3834642号 局所ポテンシャル障壁高さのパラメータ依存性測定方法 (2006)
公開特許
  1. 特開2016032006号 バンドラインナップ装置及びその測定方法 (2016)
  2. 特開2013038241号 界面終端元素予測方法及びコンピュータに界面終端元素予測を行わせるためのプログラム (2013)
  3. 特開WO2007029754号 アルミナ膜基板及びその製造方法 (2007)
外国特許
  1. No. JP2016032006A BAND LINEUP DEVICE AND METHOD FOR MEASURING THE SAME (2016)
  2. No. WO2007029754A1 ALUMINA FILM SUBSTRATE AND ITS FABRICATION METHOD (2007)

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