HF 処理 Si 表面の大気中光電子収量分光におけるべき乗則の解析と放出機構の考察
(Analysis of Power Law Exponent in Atmospheric Photoelectron Yield Spectroscopy of HF-treated Si Surfaces)
2026年 第73回 応用物理学会 春季学術講演会. 2026年03月15日-2026年03月18日.
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作成時刻: 2026-07-29 03:08:04 +0900 更新時刻: 2026-07-29 03:08:04 +0900