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- 305-0044 茨城県つくば市並木1-1 [アクセス]
研究内容
- Keywords
マイクロ・ナノデバイス 薄膜・表面界面物性
出版物原則として、2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
論文
- 柳生 進二郎, 吉武 道子. Au(111)再構成表面でのローカルバリアハイト測定. 真空. ()
- 柳生 進二郎, 吉武 道子, 長田 貴弘, 安田 剛, 桑島 功, 劉 雨彬, 中島 嘉之. 有機半導体材料における光電子収量分光（PYS）データベース構築. Journal of Surface Analysis. 29 [3] (2023) 146-154 10.1384/jsa.29.146
- Dorra Mahdaoui, Chika Hirata, Kahori Nagaoka, Kun’ichi Miyazawa, Kazuko Fujii, Toshihiro Ando, Manef Abderrabba, Osamu Ito, Shinjiro Yagyu, Yubin Liu, Yoshiyuki Nakajima, Kazuhito Tsukagoshi, Takatsugu Wakahara. Ambipolar to Unipolar Conversion in C70/Ferrocene Nanosheet Field-Effect Transistors. Nanomaterials. 13 [17] (2023) 2469 10.3390/nano13172469
会議録
- 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. バンドダイアグラム測定装置の開発. JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN(真空). (2015) 144-146
- YAGYU, Shinjiro, YOSHITAKE, Michiko, GOTO, Masahiro, CHIKYOW, Toyohiro. Development of Band Diagram Measurement System. 第53回真空に関する連合講演会論文集. (2013) 125-9-125-12
- 柳生 進二郎, 吉武 道子, 知京 豊裕. 熱力学計算によるチオール・カルボン酸の様々な無機基板表面への化学吸着の考察. JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN. (2012) 108-111
口頭発表
その他の文献
- 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 吉武 道子, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向 物質・材料研究のための先進計測テクノロジー. 調査分析室レポートNIMS-RAO-FY2016-3 [ISBN] 978-4-9900563-7-7. 1 (2016) 42-51
- 室町 英治, 藤田 高弘, 藤田 大介, 村川 健作, 山内 泰, 三石 和貴, 川喜多 磨美子, 岩井 秀夫, 大久保 忠勝, 川喜多 仁, 北澤 英明, 木本 浩司, クスタンセ オスカル, 倉橋 光紀, 後藤 敦, 坂口 勲, 坂田 修身, 櫻井 健次, 張 晗, 篠原 正, 清水 禎, 清水 智子, 志波 光晴, 鈴木 拓, 関口 隆史, 丹所 正孝, 知京 豊裕, 長田 貴弘, 野口 秀典, 端 健二郎, 宝野 和博, 柳生 進二郎, 山下 良之, 吉川 元起, 吉川 英樹, 渡邉 賢, 渡邊 誠. 材料イノベーションを加速する先進計測テクノロジーの現状と動向. 調査分析室レポート. (2016) 73-89
- 柳生 進二郎. 表面処理. 安心･安全・信頼のための抗菌材料. (2010) 99-107
特許
- 特許第7082414号 探索システムおよび探索方法 (2022)
- 特許第7111354号 探索システムおよび探索方法 (2022)
- 特許第3834642号 局所ポテンシャル障壁高さのパラメータ依存性測定方法 (2006)
- 特開2004245698号 局所ポテンシャル障壁高さのパラメータ依存性測定方法 (2004)
- 特開2013167621号 バンドラインナップ装置及びその測定方法 (2013)
- 特開2014015660号 最適イオン化ポテンシャル成膜装置 (2014)
所属学会
応用物理学会 日本真空協会 表面科学会