HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Metal glass application as the gate materials for the future ＜i＞hp＜/i＞ 32-22nm node MOSFET知京 豊裕, 桜井淳平, 秦 誠一, 松本 祐司, 大毛利 健治, 柳生 進二郎, 吉武 道子, 渡部 平司, 山田 啓作, 下川邊 明. STAC-JTMC. 2007.NIMS著者知京 豊裕柳生 進二郎吉武 道子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:30:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:55:45 +0900
