HOME > 口頭発表 > 詳細Metal glass application as the gate materials for the future ＜i＞hp＜/i＞ 32-22nm node MOSFET著者知京 豊裕, 桜井淳平, 秦 誠一, 松本 祐司, 大毛利 健治, 柳生 進二郎, 吉武 道子, 渡部 平司, 山田 啓作, 下川邊 明. 会議名STAC-JTMC発表年2007言語Japanese
