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生田目 俊秀
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305-0044 茨城県つくば市並木1-1 [アクセス]
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研究内容

Keywords

半導体CMOS、電子デバイス、ナノ薄膜形成技術、材料物性評価

出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。

研究論文
特許
  • 特許第5598916号 ゲート電極及びその製造方法 (2014)
  • 特許第5757628号 界面層削減方法、高誘電率ゲート絶縁膜の形成方法、高誘電率ゲート絶縁膜、及び高誘電率ゲート酸化膜を有するトランジスタ (2015)
  • 特許第5846563号 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置 (2015)

所属学会

The Electrochemical Society, 日本金属学会、応用物理学会

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第二期開発予定
第二期開発予定

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