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- 305-0044 茨城県つくば市並木1-1 [アクセス]
研究内容
- Keywords
薄膜Si、太陽電池、プラズマプロセシング
出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
論文
- Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima. Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors. The European Physical Journal Applied Physics. 89 [1] (2020) 10101 10.1051/epjap/2020190299
- Thang Duy Dao, Anh Tung Doan, Satoshi Ishii, Takahiro Yokoyama, Handegård Sele Ørjan, Dang Hai Ngo, Tomoko Ohki, Akihiko Ohi, Yoshiki Wada, Chisato Niikura, Shinsuke Miyajima, Toshihide Nabatame, Tadaaki Nagao. MEMS-Based Wavelength-Selective Bolometers. Micromachines. 10 [6] (2019) 416 10.3390/mi10060416
- Dong-Won Kang, Porponth Sichanugrist, Bancha Janthong, Muhammad Ajmal Khan, Chisato Niikura, Makoto Konagai. Development of wide band gap p-a-SiOxCy:H using additional trimethylboron as carbon source gas. Electronic Materials Letters. 12 [4] (2016) 462-467 10.1007/s13391-016-4007-y
書籍
- 新倉（松井）ちさと. 薄膜太陽電池用3D微細構造パターン基板. オーム社, 2019
- NIIKURA, Chisato. 太陽電池材料. 環境・エネルギー材料ハンドブック. , 2011, 99-110.
- NIIKURA, Chisato. 高周波シランガスプラズマを用いた高品質微結晶シリコン薄膜の高速作製. 薄膜太陽電池の開発最前線（高効率化・量産化・普及促進に向けて）（NTS（株））. , 2005, 68-77.
会議録
- Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima. Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors. EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS. 2020, 10101-p1-10101-p6
- Chisato Niikura, Akihisa Matsuda. Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow-controlled RF plasma-enhanced chemical vapor deposition. PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE. 2010, 521-524
- NIIKURA, Chisato, Romain Brenot, Joelle Guillet, Jean-Eric Bourée. Improved transport properties of microcrystalline silicon films grown by HWCVD with a variable hydrogen dilution process. THIN SOLID FILMS. 2008, 568-571
口頭発表
- 三成 剛生, 新倉 ちさと. 電磁波の時空間変調デバイスの開発. 時空間光工学研究会. 2021
- 新倉 ちさと. 薄型Siヘテロ接合太陽電池のための高性能パシベーション技術の検討. 学振１７５委員会WinPVJ分科会研究会. 2019
- NIIKURA, Chisato, 白取優大, 宮島晋介. Si Surface Passivation by using Triode-Type Plasma-Enhanced CVD with Thermally-Energized Film-Precursors. 28th Inter. Conf. on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors. 2019
その他の文献
- NIIKURA, Chisato. ワイヤー型シリコン薄膜太陽電池. 革新的エネルギー研究開発拠点形成事業 H24研究成果報告書. (2014) D-1-33-D-1-42
- NIIKURA, Chisato. 談話室 海外研究体験記 エコールポリテクニック（フランス）留学体験記. 表面物理. (2013) 156-157
- Kazuo Morigaki, NIIKURA, Chisato, Harumi Hikita. 微結晶シリコンにおける欠陥状態. 固体物理. 44 [4] (2009) 211-225
特許
- 特許第4859472号 プラズマプロセス装置 (2011)
- 特許第5892581号 プラズマプロセス装置 (2016)
- 特許第6415942号 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池 (2018)
- 特開2007214296号 プラズマプロセス装置 (2007)
- 特開2013042015号 プラズマプロセス装置 (2013)
- 特開2016100444号 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池 (2016)