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研究内容
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薄膜Si、太陽電池、プラズマプロセシング
出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
研究論文
- Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima. Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors. The European Physical Journal Applied Physics. 89 [1] (2020) 10101 10.1051/epjap/2020190299
- Thang Duy Dao, Anh Tung Doan, Satoshi Ishii, Takahiro Yokoyama, Handegård Sele Ørjan, Dang Hai Ngo, Tomoko Ohki, Akihiko Ohi, Yoshiki Wada, Chisato Niikura, Shinsuke Miyajima, Toshihide Nabatame, Tadaaki Nagao. MEMS-Based Wavelength-Selective Bolometers. Micromachines. 10 [6] (2019) 416 10.3390/mi10060416
- Dong-Won Kang, Porponth Sichanugrist, Bancha Janthong, Muhammad Ajmal Khan, Chisato Niikura, Makoto Konagai. Development of wide band gap p-a-SiOxCy:H using additional trimethylboron as carbon source gas. Electronic Materials Letters. 12 [4] (2016) 462-467 10.1007/s13391-016-4007-y
書籍
- 新倉 ちさと. 高周波シランガスプラズマを用いた高品質微結晶シリコン薄膜の高速作製. 薄膜太陽電池の開発最前線（高効率化・量産化・普及促進に向けて）（NTS（株））. 2005 , 68-77
- 新倉（松井）ちさと. 薄膜太陽電池用3D微細構造パターン基板. オーム社 2019
- 新倉 ちさと. 太陽電池材料. 環境・エネルギー材料ハンドブック. 2011 , 99-110
会議録
- NIIKURA, Chisato, 板垣奈穂, 松田彰久. HIGH-RATE GROWTH OF HIGH-QUALITY MICROCRYSTALLINE SILICON FILMS FROM PLASMA BY INTERCONNECTED MULTI-HOLLOW CATHODE. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2007, 5463-5467
- NIIKURA, Chisato, Romain Brenot, Joelle Guillet, Jean-Eric Bourée. Improved transport properties of microcrystalline silicon films grown by HWCVD with a variable hydrogen dilution process. THIN SOLID FILMS. 2008, 568-571
- Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima. Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors. EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS. 2020, 10101-p1-10101-p6
口頭発表
- 薮野 恭平, 新倉 ちさと, 宮島 晋介, 小長井 誠. 最適な3Dミクロ構造アモルファスSi太陽電池の探索. 第63回応用物理学会春季学術講演会. 2016
- NIIKURA, Chisato, Bancha Janthong, Makoto Konagai. Microstructured 3D thin film Si solar cells. AIST-NREL Joint Workshop on Photovoltaics. 2014
- 新倉 ちさと, 宮島 晋介. ガス加熱トライオードプラズマCVD法によるSi表面パシベーション. 第65回応用物理学会春季学術講演会. 2018
特許
- 特許第4859472号 プラズマプロセス装置 (2011)
- 特許第5892581号 プラズマプロセス装置 (2016)
- 特許第6415942号 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池 (2018)
第二期開発予定
第二期開発予定