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研究内容
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薄膜Si、太陽電池、プラズマプロセシング
出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
研究論文
- Dong-Won Kang, Porponth Sichanugrist, Bancha Janthong, Muhammad Ajmal Khan, Chisato Niikura, Makoto Konagai. Development of wide band gap p-a-SiOxCy:H using additional trimethylboron as carbon source gas. Electronic Materials Letters. 12 [4] (2016) 462-467 10.1007/s13391-016-4007-y
- Chisato Niikura, Amartya Chowdhury, Bancha Janthong, Porponth Sichanugrist, Makoto Konagai. High-efficiency p–i–n superstrate amorphous Si solar cells on SiOxperiodic arrays of three-dimensional microstructure prepared by soft imprinting. Applied Physics Express. 9 [4] (2016) 042301 10.7567/apex.9.042301
- 新倉 ちさと. ワイヤー型シリコン薄膜太陽電池. 革新的エネルギー研究開発拠点形成事業 H24研究成果報告書. (2014) D-1-33-D-1-42
書籍
- 新倉 ちさと. 高周波シランガスプラズマを用いた高品質微結晶シリコン薄膜の高速作製. 薄膜太陽電池の開発最前線（高効率化・量産化・普及促進に向けて）（NTS（株））. 2005 , 68-77
- 新倉 ちさと. 太陽電池材料. 環境・エネルギー材料ハンドブック. 2011 , 99-110
会議録
- NIIKURA, Chisato, 板垣奈穂, 松田彰久. HIGH-RATE GROWTH OF HIGH-QUALITY MICROCRYSTALLINE SILICON FILMS FROM PLASMA BY INTERCONNECTED MULTI-HOLLOW CATHODE. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. 2007, 5463-5467
- NIIKURA, Chisato, Romain Brenot, Joelle Guillet, Jean-Eric Bourée. Improved transport properties of microcrystalline silicon films grown by HWCVD with a variable hydrogen dilution process. THIN SOLID FILMS. 2008, 568-571
- Chisato Niikura, Akihisa Matsuda. Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow-controlled RF plasma-enhanced chemical vapor deposition. PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE. 2010, 521-524
口頭発表
- 薮野 恭平, 新倉 ちさと, 宮島 晋介, 小長井 誠. 最適な3Dミクロ構造アモルファスSi太陽電池の探索. 第63回応用物理学会春季学術講演会. 2016
- NIIKURA, Chisato, Bancha Janthong, Makoto Konagai. Microstructured 3D thin film Si solar cells. AIST-NREL Joint Workshop on Photovoltaics. 2014
- 新倉 ちさと, 宮島 晋介. ガス加熱トライオードプラズマCVD法によるSi表面パシベーション. 第65回応用物理学会春季学術講演会. 2018
特許
- 特許第4859472号 プラズマプロセス装置 (2011)
- 特許第5892581号 プラズマプロセス装置 (2016)
- 特許第6415942号 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池 (2018)
第二期開発予定
第二期開発予定