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金属/酸化物界面結合予測式を用いたSi-およびGe/high-k界面の予測
(Prediction of Si- and Ge/high-k interface bonding using general formula for predicting metal/oxide interface bonding )

著者吉武 道子, 柳生 進二郎, 知京 豊裕.
会議名第59回応用物理学関係連合講演会
発表年2012
言語Japanese

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