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最終更新時刻: 2026-11-08 03:07:48 +0900
| 4464件の特許公開公報が見つかりました。公報は出版年月日順に表示しています。（ヘルプ） | |
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二液混合システム、及び、二液混合キット (2022, 特開2022043408号 , 特許7511886号 )
機構所属の発明者: 田口 哲志 |
テラヘルツ発振素子、その製造方法、および、テラヘルツ発振装置 (2022, 特開2022034096号 , 特許7623670号 )
機構所属の発明者: 竹屋 浩幸 , 高野 義彦 , 寺嶋 健成 |
紫外線遮蔽材、その製造方法、それを用いた化粧料、および、保護シート (2022, 特開2022033391号 , 特許7541331号 )
機構所属の発明者: 井出 裕介 |
ポリ（２，６－ジフェニル－ｐ－フェニレンオキシド）を使用したナノメカニカルセンサ用感応膜、この感応膜を有するナノメカニカルセンサ、この感応膜のナノメカニカルセンサへの塗布方法、及びこのナノメカニカルセンサの感応膜の再生方法 (2022, US20220228971 EP3961185 WO2020218086 CNN113874706A 3961185 )
機構所属の発明者: 柴 弘太 , 吉川 元起 |
抗菌・抗ウィルス部材 (2022, 特開2022032261号 )
機構所属の発明者: 山本 玲子 |
窒素系ガス徐放剤及びこれで構成された窒素系ガス徐放体、並びに該徐放体を用いた窒素系ガスの徐放方法、呼吸器具、包装体及び徐放装置 (2022, 202147047140 20210138685 KR20210138685 US20220211748 CN113767066 EP3957604 WO2020213398 US20250170169 3957604 )
機構所属の発明者: 井伊 伸夫 , 石原 伸輔 |
六方晶窒化ホウ素薄膜の製造方法 (2022, 特開2022029783号 , 特許7479011号 )
機構所属の発明者: 小出 康夫 |
酸化誘起型自己治癒セラミックス製造用の原料粉末の製造方法、及び酸化誘起型自己治癒セラミックス製造用の原料粉末 (2022, 特開2022026799号 , 特許7510645号 )
機構所属の発明者: 長田 俊郎 |
オーステナイト系Fe基耐熱合金 (2022, 特開2022024337号 )
機構所属の発明者: 鉄井 利光 |
電極活物質とその製造方法、および二次電池 (2022, 特開2022024258号 , 特許7594754号 )
機構所属の発明者: 万代 俊彦 |
