酸化物薄膜トランジスターに対する信頼性へのAl2O3/In0.76Si0.24O0.99C0.01界面の影響
(Influence of Al2O3/In0.76Si0.24O0.99C0.01 interface on reliability for oxide thin film transistor)
PCSI-45. 2018年01月14日-2018年01月18日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-10-03 22:11:58 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:13:31 +0900