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研究内容
出版物2004年以降のNIMS所属における研究成果や出版物を表示しています。
研究論文
- Anh Tung Doan, Takahiro Yokoyama, Thang Duy Dao, Satoshi Ishii, Akihiko Ohi, Toshihide Nabatame, Yoshiki Wada, Shigenao Maruyama, Tadaaki Nagao. A MEMS-Based Quad-Wavelength Hybrid Plasmonic–Pyroelectric Infrared Detector. Micromachines. 10 [6] (2019) 413 10.3390/mi10060413
- Thang Duy Dao, Anh Tung Doan, Satoshi Ishii, Takahiro Yokoyama, Handegård Sele Ørjan, Dang Hai Ngo, Tomoko Ohki, Akihiko Ohi, Yoshiki Wada, Chisato Niikura, Shinsuke Miyajima, Toshihide Nabatame, Tadaaki Nagao. MEMS-Based Wavelength-Selective Bolometers. Micromachines. 10 [6] (2019) 416 10.3390/mi10060416
- Erika Maeda, Toshihide Nabatame, Kazuya Yuge, Masafumi Hirose, Mari Inoue, Akihiko Ohi, Naoki Ikeda, Koji Shiozaki, Hajime Kiyono. Change of characteristics of n-GaN MOS capacitors with Hf-rich HfSiOx gate dielectrics by post-deposition annealing. Microelectronic Engineering. 216 (2019) 111036 10.1016/j.mee.2019.111036
会議録
- NABATAME, Toshihide, KIMURA, Masayuki, YAMADA, Hiroyuki, OHI, Akihiko, CHIKYOW, Toyohiro, Tomoji Ohishi. Mechanism of Vfb shift in HfO2 gate stack by Al diffusion from (TaC)1-xAlx gate electrode. ECS TRANSACTIONS. 2012, 49-59
- Toshihide Nabatame, Akihiko Ohi, Toyohiro Chikyow. Role of Hetero Interface of Ionic/Covalent Oxides for Pt/High-k/SiO. ECS TRANSACTIONS. 2010
- Toshihide Nabatame, Masayuki Kimura, Hiroyuki Yamada, Akihiko Ohi, Tomoji Ohishi, Toyohiro Chikyow. Influence of oxygen transfer in Hf-based high-k dielectrics on flatband voltage shift. THIN SOLID FILMS. 2012, 3387-3391
口頭発表
- エルアミル アアハメド モハメド エルサイド アハメド, 大澤 健男, 和田 芳樹, 大井 暁彦, 山本 悟, 島村 清史, 大橋 直樹. Ecofriendly photodiode-based-Mg2Si for SWIR sensation. 日本セラミックス協会2018年年会. 2018
- 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 伊藤和博, 高橋誠, 知京 豊裕. Characteristics of charge trap flash memory with Al2O3/(Ta/Nb)Ox/Al2O3 multi-layer. 225th ECS Meeting. 2014
- 生田目 俊秀, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 山田 博之, 木村 将之, 大石知司. High-k酸化膜の酸素拡散とフラットバンド電圧シフトの関係. 日本金属学会 2011年春期大会. 2011
第二期開発予定
第二期開発予定