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著者名CHIKYOW, Toyohiro, OHI, Akihiko, NABATAME, Toshihide, NAGATA, Takahiro, YOSHITAKE, Michiko, CHEN, Jun, SEKIGUCHI, Takashi, OHMORI, Kenji.
タイトルCOMBINATORIAL MATERIALS EXPLORATION ON HIGH-K GATE OXIDE AND METAL GATE FOR FUTURE CMOS DEVICES
会議名ISAEM-2012 -AMDI-3
発表年2012
言語English
外部での文献参照

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