HOME > Presentation > Detail Al2O3/n-GaN界面での伝導帯/価電子帯近傍の界面準位密度に関する研究(Study of interface state density near conduction/valence band at Al2O3/n-GaN interface)弓削 雅津也, 生田目 俊秀, 色川 芳宏, 大井 暁彦, 池田 直樹, 上殿明殿, サン リウエン, 小出 康夫, 大石知司. 膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会. January 24, 2019-January 26, 2019.NIMS author(s)YUGE, KazuyaNABATAME, ToshihideIROKAWA, YoshihiroOHI, AkihikoIKEDA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2019-12-02 10:42:46 +0900 Updated at: 2019-12-02 10:42:46 +0900