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Origin of Fatigue Properties Induced by Oxygen Vacancies Originating from Ferroelectric-HfxZr1−xO2/TiN Interface Reaction During Field Cycling

2023 International Workshop on Dielectric Thin Films For Future Electron Devices. 2023年10月23日-2023年10月25日.

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    作成時刻: 2023-10-31 03:14:38 +0900更新時刻: 2023-10-31 03:14:38 +0900

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