HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ナノZrO2核生成層を用いた強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の作製技術(Fabrication technique of ferroelectric HfxZr1−xO2 thin films using nano-ZrO2 nucleation layer)女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 長田 貴弘, 小椋厚志. 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦池田 直樹長田 貴弘Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-07-01 16:43:10 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:20:41 +0900