HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Bias induced Cu ion migration behavior in resistive change memory structure observed by hard x-ray photoelectron spectroscopy長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 井村 将隆, オウ セウンジン, 小橋 和義, 知京 豊裕. 2014 International Microprocesses and Nanotechnology Conference . 2014.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹井村 将隆知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:57:53 +0900更新時刻: 2017-09-08 21:49:49 +0900