ALD-ZrO2シード層によるHfxZr1-xO2膜の強誘電性の改良
(Improvement of ferroelectricity of HfxZr1-xO2 film using ALD-ZrO2 seed layer)
第64回応用物理学会春季学術講演会. 2017.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-19 04:38:52 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:35:13 +0900