Influence of surface cleaning process on initial growth of ALD-Al2O3 and electrical properties of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors
ALD2019. 2019年07月21日-2019年07月24日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2020-03-13 03:00:31 +0900更新時刻: 2020-03-13 03:00:31 +0900