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Influence of surface cleaning process on initial growth of ALD-Al2O3 and electrical properties of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors

廣瀨 雅史, NABATAME, Toshihide, 前田 瑛里香, OHI, Akihiko, IKEDA, Naoki, IROKAWA, Yoshihiro, KOIDE, Yasuo, 清野肇.
ALD2019. 2019.

NIMS著者


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    作成時刻 :2020-03-13 03:00:31 +0900 更新時刻 :2020-03-13 03:00:31 +0900

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