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著者名長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 井村 将隆, オウ セウンジン, 知京 豊裕.
タイトル硬X線光電子分光法によるCu/HfO2 -ReRAM素子動作時の界面構造解析
(Bias application hard X-ray photoelectron spectroscopy study of Cu/HfO2 ReRAM structure)
会議名第20回ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―
発表年2015
言語Japanese
外部での文献参照

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