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Influence of Adsorbed O2 on The Gate-Bias Stress Stability of Back-Gate-Type TFT with Carbon-Doped In2O3 Channel

KOBAYASHI, Riku, NABATAME, Toshihide, ONAYA, Takashi, OHI, Akihiko, IKEDA, Naoki, NAGATA, Takahiro, TSUKAGOSHI, Kazuhito, 小椋 厚志.
33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference/https://mnc2020.award-con.com/LOGIN.php. 2020年11月09日-2020年11月12日.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

    作成時刻: 2020-12-03 15:05:57 +0900 更新時刻: 2020-12-03 15:05:57 +0900

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