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Influence of post-deposition annealing on electrical characteristics of Pt/Al2O3/β-Ga2O3 MOS capacitors

廣瀨 雅史, NABATAME, Toshihide, 弓削 雅津也, 前田 瑛里香, OHI, Akihiko, IKEDA, Naoki, IROKAWA, Yoshihiro, IWAI, Hideo, 安福 秀幸, KAWADA, Satoshi, KOIDE, Yasuo.
INFOS 2019. 2019年06月30日-2019年07月03日.

NIMS著者

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

    作成時刻: 2019-10-05 03:00:21 +0900 更新時刻: 2019-10-05 03:00:21 +0900

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