Al2O3/n-GaNキャパシタの自然酸化膜層が電気特性へ及ぼす影響
(Influence of native oxide layer on electrical characteristics of Al2O3/n-GaN capacitors)
シリコン材料・デバイス研究会 (SDM). 2018-06-25.
NIMS著者
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作成時刻: 2018-04-18 22:22:18 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:19:49 +0900