Homoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping

著者	T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide.
掲載誌名	Materials Science in Semiconductor Processing 70 197-202 ISSN: 13698001 ESIでのカテゴリ: MATERIALS SCIENCE
出版社	Elsevier BV
発表年	2017
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012
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