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著者名T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide.
タイトルHomoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping
掲載誌名Materials Science in Semiconductor Processing 70 197-202
出版社Elsevier BV
発表年2017
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012
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