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| 著者名 | T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide. |
|---|---|
| タイトル | Homoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping |
| 掲載誌名 | Materials Science in Semiconductor Processing 70 197-202 |
| 出版社 | Elsevier BV |
| 発表年 | 2017 |
| 言語 | English |
| DOI | https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012 |
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