Improvement in ferroelectricity of HfxZr1−xO2 thin films using top- and bottom-ZrO2 nucleation layers

著者	Takashi Onaya, Toshihide Nabatame, Naomi Sawamoto, Akihiko Ohi, Naoki Ikeda, Takahiro Nagata, Atsushi Ogura.
掲載誌名	APL Materials 7 [6] 061107 ISSN: 2166532X ESIでのカテゴリ: MATERIALS SCIENCE
出版社	AIP Publishing
発表年	2019
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1063/1.5096626
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