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著者名陳 君, 関口 隆史, 高瀬 雅美, 深田 直樹, 知京 豊裕, 蓮沼隆, 山部紀久夫, 佐藤基之, 奈良安雄, 山田啓作.
タイトルEBICによるHigh-k/metal gate構造内の電気ストレス誘起欠陥発生のその場観察
(In-situ EBIC observation of electrical-stress induced defects in high-K/metal gate stacks)
会議名2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
発表年2009
言語Japanese
外部での文献参照

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