(Combination with Atomic Layer Deposition Technique for Fabrication of High-performance HfO2/diamond Metal-oxide-insulator Field Effect Transistors)
2013 NIMS conference. 2013年07月01日-2013年07月03日.
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作成時刻: 2017-01-08 03:55:01 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:40:11 +0900