SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

酸化物半導体薄膜表面の電荷蓄積層の評価と制御
(Study on surface electron accumulation layer of oxide semiconductor films)

長田 貴弘, ビエラワゲンオリバー, ホワイトマーク, ツアイミン, 山下 良之, 吉川 英樹, 大橋 直樹, 小林 啓介, 知京 豊裕, ジェームズスペック.
日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会. 2012年10月26日-2012年10月27日.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻: 2017-02-14 11:23:30 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:28:23 +0900

    ▲ページトップへ移動