HOME > 口頭発表 > 書誌詳細酸化物半導体薄膜表面の電荷蓄積層の評価と制御(Study on surface electron accumulation layer of oxide semiconductor films)長田 貴弘, ビエラワゲンオリバー, ホワイトマーク, ツアイミン, 山下 良之, 吉川 英樹, 大橋 直樹, 小林 啓介, 知京 豊裕, ジェームズスペック. 日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会. 2012.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹大橋 直樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:23:30 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:28:23 +0900