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著者名SUZUKI, Yoshihisa, NAGATA, Takahiro, YAMASHITA, Yoshiyuki, NABATAME, Toshihide, 厚志, CHIKYOW, Toyohiro.
タイトルThin film growth of (110) RutileTiO2 on (100) Ge Substrate by Pulsed Laser Deposition
(Ge上ルチル型TiO2成膜条件の最適化の検討)
会議名28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
発表年2015
言語English
外部での文献参照

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