HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Ge上ルチル型TiO2成膜条件の最適化の検討(Thin film growth of (110) RutileTiO2 on (100) Ge Substrate by Pulsed Laser Deposition)鈴木 良尚, 長田 貴弘, 山下 良之, 生田目 俊秀, 小椋, 知京 豊裕. 28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference. 2015.NIMS著者長田 貴弘山下 良之生田目 俊秀知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:00:46 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:17:31 +0900