SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

Ge上ルチル型TiO2成膜条件の最適化の検討
(Thin film growth of (110) RutileTiO2 on (100) Ge Substrate by Pulsed Laser Deposition)

28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference. 2015.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2017-01-08 04:00:46 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:17:31 +0900

    ▲ページトップへ移動