HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(ias Application HX-PES Study of Metal/HfO2 structure for Oxide Based ReRAM Application)長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 南風盛 将光, 小林 啓介, 知京 豊裕. 8th International Nanotechnology Conference on Communication and. 2012.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:39:22 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:22:11 +0900