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著者名長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 南風盛 将光, 小林 啓介, 知京 豊裕.
タイトルias Application HX-PES Study of Metal/HfO2 structure for Oxide Based ReRAM Application
会議名8th International Nanotechnology Conference on Communication and
発表年2012
言語Japanese
外部での文献参照

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