HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(ias Application HX-PES Study of Metal/HfO2 structure for Oxide Based ReRAM Application)長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 南風盛 将光, 小林 啓介, 知京 豊裕. 8th International Nanotechnology Conference on Communication and. 2012年05月08日-2012年05月11日.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:39:22 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:22:11 +0900