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著者名長田 貴弘, 南風盛 将光, 山下 良之, 吉川 英樹, 小林 啓介, 知京 豊裕.
タイトル電圧印加硬X線光電子分光法によるReRAM:金属/HfO2界面の電子状態評価
(Study of ReRAM-metal/HfO2 interface structure: a bias-application hard x-ray)
会議名2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会
発表年2010
言語Japanese
外部での文献参照

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