電圧印加硬X線光電子分光法によるReRAM:金属/HfO2界面の電子状態評価
(Study of ReRAM-metal/HfO2 interface structure: a bias-application hard x-ray)
2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:22:44 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:52:44 +0900