HOME > Presentation > Detail
電圧印加硬X線光電子分光法によるReRAM:金属/HfO2界面の電子状態評価
(Study of ReRAM-metal/HfO2 interface structure: a bias-application hard x-ray)
2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. September 14, 2010-September 17, 2010.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-01-08 04:22:44 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:52:44 +0900