HOME > 口頭発表 > 書誌詳細イオン注入によるSiナノワイヤへの不純物ドーピングと電気的活性化(Impurity doping in Si nanowires by ion-implantation and electrical activation of implanted impurities)齋藤直之, 瀬岡雅典, 深田 直樹, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. 2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会. 2008.NIMS著者深田 直樹陳 君菱田 俊一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:29:58 +0900 更新時刻 :2017-07-10 20:16:00 +0900