短時間アニールを利用したBイオン注入Siナノワイヤの結晶性回復とBの電気的活性化
(Recrystallization and electrical activation of Boron in B+ implanted Si nanowires by short time annealing)
2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:01:24 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:36:22 +0900