HOME > Presentation > Detail
短時間アニールを利用したBイオン注入Siナノワイヤの結晶性回復とBの電気的活性化
(Recrystallization and electrical activation of Boron in B+ implanted Si nanowires by short time annealing)
2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. September 08, 2009-September 11, 2009.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-02-14 11:01:24 +0900Updated at: 2017-07-10 20:36:22 +0900