HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Study on oxygen and metal migration at Pt or Cu/HfO2 interfaces under bias operation for oxide based ReRAM application)長田 貴弘, 南風盛 将光, 山下 良之, 吉川 英樹, 小林 啓介, 知京 豊裕. The Seventh International Nanotechnology Conference on Communic. 2011年05月16日-2011年05月19日.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:22:40 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:04:37 +0900