HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Study on oxygen and metal migration at Pt or Cu/HfO2 interfaces under bias operation for oxide based ReRAM application)長田 貴弘, 南風盛 将光, 山下 良之, 吉川 英樹, 小林 啓介, 知京 豊裕. The Seventh International Nanotechnology Conference on Communic. 2011.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:22:40 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:04:37 +0900