HOME > 口頭発表 > 書誌詳細h-BNゲート絶縁体を用いたノーマリーオフ型高移動度ダイヤモンドFET(Normally-Off High-Mobility Diamond FET with a h-BN Gate Insulator)笹間 陽介, 蔭浦 泰資, 井村 将隆, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 内橋 隆, 山口 尚秀. 2022年第69回応用物理学会春季学術講演会. 2022年03月22日-2022年03月26日. 招待講演NIMS著者笹間 陽介井村 将隆渡邊 賢司谷口 尚内橋 隆山口 尚秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-04-12 03:25:25 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:21:55 +0900