HOME > Presentation > Detailh-BNゲート絶縁体を用いたノーマリーオフ型高移動度ダイヤモンドFET(Normally-Off High-Mobility Diamond FET with a h-BN Gate Insulator)笹間 陽介, 蔭浦 泰資, 井村 将隆, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 内橋 隆, 山口 尚秀. 2022年第69回応用物理学会春季学術講演会. March 22, 2022-March 26, 2022. InvitedNIMS author(s)SASAMA, YosukeIMURA, MasatakaWATANABE, KenjiTANIGUCHI, TakashiUCHIHASHI, TakashiYAMAGUCHI, TakahideFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2022-04-12 03:25:25 +0900 Updated at: 2024-03-05 12:21:55 +0900