HOME > 口頭発表 > 書誌詳細GaN(0001)基板上でのアモルファスGa2O3膜の熱処理による高配向結晶成長(Highly orientation growth of an amorphous Ga2O3 film on GaN(0001) by annealing process)澤田 朋実, 生田目 俊秀, 高橋 誠, 伊藤 和博, 女屋 崇, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁. 第28回 電子デバイス界面テクノロジー研究会. 2023年02月02日-2023年02月04日.NIMS著者生田目 俊秀女屋 崇色川 芳宏塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2023-02-08 03:36:08 +0900 更新時刻: 2023-02-08 03:36:08 +0900