HOME > 口頭発表 > 詳細GaN(0001)基板上でのアモルファスGa2O3膜の熱処理による高配向結晶成長(Highly orientation growth of an amorphous Ga2O3 film on GaN(0001) by annealing process)著者澤田 朋実, 生田目 俊秀, 高橋 誠, 伊藤 和博, 女屋 崇, 色川 芳宏, 小出 康夫, 塚越 一仁. 会議名第28回 電子デバイス界面テクノロジー研究会発表年2023言語Japanese
