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4H-SiC/SiO2界面におけるNO酸窒化による炭素窒素置換反応
(First-Principles Molecular Dynamics Simulations of NO Oxynitridation in 4H-SiC/SiO2 ~Substitution Reaction between N and C at the Interface ~)

山崎 隆浩, 田島 暢夫, 奈良 純, 清水達雄, 加藤弘一, 大野 隆央.
第78回応用物理学会秋季学術講演会. 2017.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-07-05 22:49:43 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:10:24 +0900

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