HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Importance of Annealing Step on Dielectric Constant of ZrO2 Layer of MIM Capacitors with Al2O3/ZrO2 and ZrO2/Al2O3 Stack Structures澤田 朋実, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁. 240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/. 2021年10月10日-2021年10月14日.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦池田 直樹塚越 一仁Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2021-10-28 03:35:36 +0900更新時刻: 2021-10-28 03:35:36 +0900