HOME > 口頭発表 > 詳細Importance of Annealing Step on Dielectric Constant of ZrO2 Layer of MIM Capacitors with Al2O3/ZrO2 and ZrO2/Al2O3 Stack Structures著者澤田 朋実, 生田目 俊秀, 女屋 崇, 井上 万里, 大井 暁彦, 池田 直樹, 塚越 一仁. 会議名240th ECS Meeting / https://www.electrochem.org/240/発表年2021言語English
