High-kシード層がHfZrO2膜の強誘電性へ及ぼす影響
(Influence of High-k Seed Layer on Ferroelectricity of HfZrO2 Film)
電子デバイス界面テクノロジー研究会 材料・プロセス・デバイス特性. 2017.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 10:58:38 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:32:20 +0900