HOME > 口頭発表 > 詳細High-kシード層がHfZrO2膜の強誘電性へ及ぼす影響(Influence of High-k Seed Layer on Ferroelectricity of HfZrO2 Film)著者女屋 崇, 生田目 俊秀, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志. 会議名電子デバイス界面テクノロジー研究会 材料・プロセス・デバイス特性発表年2017言語Japanese
