HOME > 口頭発表 > 書誌詳細4H-SiC/SiO2 界面O2 酸化の第一原理シミュレーション 〜SiC(0001)Si 面と(000-1)C 面の違い〜(First-Principles Molecular Dynamics Simulations of O2 Oxidation in 4H-SiC/SiO2 ~Differences between SiC(0001)Si and (000-1)C faces~)山崎 隆浩, 田島 暢夫, 金子 智昭, 奈良 純, 清水達雄, 加藤弘一, 大野 隆央. 応用物理学会秋季学術講演会. 2016.NIMS著者奈良 純Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 05:08:34 +0900更新時刻: 2018-06-05 13:59:26 +0900