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著者名山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司.
タイトルTMA/H2O-ALD法によるRutile-TiO2膜へ酸素欠損の形成による電気特性
(Electrical properties due to oxgen vacancy formation in Rutile-TiO2 films by TMA/H2O-ALD process)
会議名第20回ゲート・スタック研究会
発表年2015
言語Japanese
外部での文献参照

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