HOME > 口頭発表 > 書誌詳細将来のTFTへおける炭素ドープしたIn-Si-Oチャネルのインパクト(Impact of carbon-doped In-Si-O channel for future TFT)栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志. 227th ECS Meeting. 2015.NIMS著者生田目 俊秀塚越 一仁大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:27:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:02:45 +0900