HOME > 口頭発表 > 書誌詳細将来のTFTへおける炭素ドープしたIn-Si-Oチャネルのインパクト(Impact of carbon-doped In-Si-O channel for future TFT)栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志. 227th ECS Meeting. 2015年05月24日-2015年05月28日.NIMS著者生田目 俊秀塚越 一仁大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:27:21 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:02:45 +0900