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将来のTFTへおける炭素ドープしたIn-Si-Oチャネルのインパクト
(Impact of carbon-doped In-Si-O channel for future TFT)

栗島 一徳, 生田目 俊秀, 三苫 伸彦, 木津 たきお, 塚越 一仁, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 山本 逸平, 大石知司, 知京 豊裕, 小椋厚志.
227th ECS Meeting. 2015年05月24日-2015年05月28日.

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    作成時刻: 2017-02-14 11:27:21 +0900 更新時刻: 2017-07-10 22:02:45 +0900

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