TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性
(Oxygen vacancy into Rutile-TiO2 films introduced by TMA-ALD process and its electrical properties)
日本金属学会 2014年秋季講演大会. 2014年09月24日-2014年09月26日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-14 11:14:47 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:55:42 +0900