HOME > 口頭発表 > 書誌詳細TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性(Oxygen vacancy into Rutile-TiO2 films introduced by TMA-ALD process and its electrical properties)山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司. 日本金属学会 2014年秋季講演大会. 2014.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦長尾 忠昭知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:14:47 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:55:42 +0900