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TMA原料によるRutile-TiO2膜への酸素欠損の導入とその電気特性
(Oxygen vacancy into Rutile-TiO2 films introduced by TMA-ALD process and its electrical properties)
日本金属学会 2014年秋季講演大会. 2014.
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Created at: 2017-02-14 11:14:47 +0900Updated at: 2017-07-10 21:55:42 +0900