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著者名NABATAME, Toshihide, YAMAMOTO, Ippei, SAWADA, Tomomi, OHI, Akihiko, DAO, Duy Thang, NAGAO, Tadaaki, Atsushi Ogura, Tomoji Ohishi, CHIKYOW, Toyohiro.
タイトルControl of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor
会議名15th International Conference on Atomic Layer Deposition
発表年2015
言語English
外部での文献参照

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