HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 小椋厚志, 大石知司, 知京 豊裕. 15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦長尾 忠昭知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 10:56:17 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:06:30 +0900