SAMURAI - NIMS Researchers Database

HOME > 口頭発表 > 書誌詳細

Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor

15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2017-02-14 10:56:17 +0900 更新時刻 :2017-07-10 22:06:30 +0900

    ▲ページトップへ移動