HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor生田目 俊秀, 山本 逸平, 澤田 朋実, 大井 暁彦, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 小椋厚志, 大石知司, 知京 豊裕. 15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015年06月28日-2015年07月01日.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦長尾 忠昭知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:56:17 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:06:30 +0900