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Control of oxygen vacancy in TiO2 films introduced by ALD using TMA precursor

15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015年06月28日-2015年07月01日.

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    作成時刻: 2017-02-14 10:56:17 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:06:30 +0900

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