HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Oxygen migration at Pt or Cu/HfO2 interface under bias operation: oxide based ReRAM application)長田 貴弘, 南風盛 将光, 山下 良之, 吉川 英樹, 小林 啓介, 岩下 祐太, 知京 豊裕. 2011 Materials Research Society Spring Meeting and Exhibit. 2011年04月25日-2011年04月29日.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:00:26 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:03:54 +0900