HOME > Presentation > Detailイオン注入によるSiナノワイヤへのPドーピングと電気的活性化(P doping and electrical activation in Si nanowires by ion-implantation)石田慎哉, 瀬岡雅典, 齋藤直之, 横野茂輝, 深田 直樹, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. 春季第56回応用物理学会学術講演会. 2009.NIMS author(s)FUKATA, NaokiCHEN, JunHISHITA, ShunichiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2017-01-08 04:12:25 +0900 Updated at :2017-07-10 20:28:55 +0900