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著者名小橋 和義, 長田 貴弘, 生田目 俊秀, 山下 良之, 小椋 厚志, 知京 豊裕.
タイトルHfO2/Ge界面へのルチル型TiO2挿入によるGeOx生成の抑制
(Suppression of GeOx with rutile TiO2 Interlayer between HfO2 and Ge)
会議名シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
発表年2013
言語Japanese
外部での文献参照

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